新刊書籍「半導体製造における洗浄技術」が2024年12月2日に発売!洗浄の先端を知る研究者・技術者が各視点から最新の半導体洗浄技術を解説。

2024.11.28 13:30
株式会社シーエムシー出版
株式会社シーエムシー出版(本社:東京都千代田区神田錦町1-17-1、代表取締役:金森洋平)は、半導体洗浄技術の最新動向について詳述した書籍『半導体製造における洗浄技術(監修:羽深等/反応装置工学ラボラトリ)』(定価:税込71,500円)を、2024年12月2日に発売いたします。本書籍は、当社ECサイトおよび全国の書店にてご購入いただけます。
目次などの詳細については以下をご覧ください。
刊行にあたって
半導体洗浄には永遠の課題が幾つも存在している。例えば、表面に露出している多種類の物質を同時に洗わなければならないし、微細化が進めば狭い溝の奥まで洗うことになり、課題が高度化する。その際、誘電率がさらに低い絶縁膜を採用したり、電子を素早く動かすために新たな元素を追加すれば、それに合わせた洗浄も考えなければならない。従来から、電子デバイスを作る際の洗浄回数は夥しく多いので、コストと時間を抑える課題に終わりはない。今後、電子デバイスの微細化・高機能化が進むにあたり、さらに多種類の元素・物質を使うようになると予想されることから、適切な洗浄技術を持つことが半導体技術の発展に直結すると考えるべきである。(本書「はじめに」より抜粋)
著者
羽深 等   反応装置工学ラボラトリ
飯野秀章   栗田工業(株)
田中洋一   栗田工業(株)
篠村尚志   JSR(株)
山下耕司   ステラケミファ(株)
服部 毅   Hattori Consulting International
樋口鮎美   (株)SCREENセミコンダクターソリューションズ
泉妻宏治   グローバルウエーハズ・ジャパン(株)
河瀬康弘   三菱ケミカル(株)
清家善之   愛知工業大学;la quaLab合同会社
根本一正   (国研)産業技術総合研究所
クンプアン ソマワン  (国研)産業技術総合研究所
原 史朗   (国研)産業技術総合研究所;(一社)ミニマルファブ推進機構
宮崎紳介   (株)ダン・タクマ
平井聖児   ものつくり大学
堀内 勉   ものつくり大学
高橋常二郎  (株)資源開発研究所
堀邊英夫   大阪公立大学
山内 守   (株)レクザム
山崎克弘   Shibaura Technology International Corporation
長嶋裕次   芝浦メカトロニクス(株)
長谷川浩史  (株)カイジョー
庄盛博文   (株)ジェイ・イー・ティ
阿部文彦   HUGパワー(株)
谷島 孝   (一社)ミニマルファブ推進機構
中西基裕   (株)リガク
太田雄規   (株)リガク
川端克彦   (株)イアス
目次
第1章 半導体製造プロセスを支える洗浄技術
1 大口径化と微細化
2 洗う理由
3 前工程と洗浄
4 装置,薬液と乾燥
5 洗う面積
6 地球環境への影響と貢献
7 まとめ
第2章 半導体洗浄液の動向
1 機能性洗浄水
2 半導体向け機能性洗浄剤
3 超高純度フッ化水素酸
第3章 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・乾燥技術
1 シリコンウェーハ洗浄技術の過去・現在・未来
2 半導体ウェット洗浄技術の基礎と最先端技術
3 シリコンウェーハにおける洗浄技術の重要性とその動向
4 先端半導体デバイスのCMP後洗浄技術と表面状態の評価
5 次世代半導体デバイスのための物理的洗浄技術:スプレー、超音波、そして次世代の洗浄技術
6 表面張力を利用するスピンドロップレット洗浄技術
7 マイクロバブルの半導体洗浄への応用
8 オゾンマイクロバブルによる半導体フォトレジストの除去メカニズム
9 レジスト除去技術―湿潤オゾン装置を用いたレジスト除去―
10 レジスト除去技術―イオンビーム照射レジストに対する湿潤オゾンによる除去―
11 レジスト除去技術―水素ラジカル装置を用いたレジスト除去―
12 レジスト除去技術―酸素マイクロバブル水による芳香族分解―
13 超臨界二酸化炭素(SCCO2)を用いた次世代半導体洗浄技術
14 半導体ウェハの超臨界乾燥技術
第4章 半導体製造プロセスを支える洗浄装置
1 高品質なシリコンウェーハ基板製造に寄与する枚葉式洗浄装置
2 微細パーティクルを効率的に除去する超音波洗浄機
3 高温処理ウエットステーションの現在地と未来~Batch式からHTSの系譜~
4 蒸気2流体洗浄と高温高濃度オゾン水洗浄について
5 ミニマルファブで用いる超小口径のハーフインチウェハ製造における洗浄技術
第5章 半導体洗浄の評価・観察・解析
1 半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム
2 全反射蛍光X線分析による半導体ウェーハの汚染分析
3 ICP-MSを用いた半導体ウェーハ中の極微量金属不純物の分析方法

あわせて読みたい

【ライブ配信セミナー】次世代自動車・データセンタ用サーバ電源高性能化に対応するSiC/GaNパワーデバイスの技術動向と課題 12月18日(水)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES
【ライブ配信セミナー】ファインバブルの基礎と活用事例 12月16日(月)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES
クリスマス限定の宝石や鉱物のような琥珀糖「こうぶつヲカシ」発売中
PR TIMES Topics
【ライブ配信セミナー】架橋ポリオレフィンのマテリアルリサイクル技術の最先端 11月20日(水)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES
【ライブ配信セミナー】シリコンフォトニクス技術 11月12日(火)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES
【氷と、ととと × BERTH COFFEE】ピスタチオとバルサミコフランボワーズのかき氷
PR TIMES Topics
創薬、疾患発症機序解明、食品栄養・機能性研究、化学物質毒性試験など、さまざまな応用が期待される「臓器チップ」の開発技術を詳述した1冊が普及版となって発売!
PR TIMES
【新刊案内】世界のチップレット・先端パッケージ 最新業界レポート  発行:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES
廃ビニール傘から作られる独自素材GLASS RAINとヒノキレザーを使用したバッグ2製品登場
PR TIMES Topics
小型基板向け半導体露光装置“FPA-3030i6”を発売 新開発レンズ採用と多彩なオプションにより市場が拡大するパワーデバイス製造に対応
PR TIMES
【ライブ配信セミナー】高速次世代通信時代に応用される先端基板開発動向  11月15日(金)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES
【VILLA COMMUNICO】奈良伝統の「若草山焼き」にあわせ1日5室限定プラン販売
PR TIMES Topics
新刊書籍「クリーン水素・アンモニア利活用最前線」を2024年11月29日に発売!カーボンニュートラル達成に向け開発が進む水素・アンモニアの製造・輸送・貯蔵・利活用技術について纏めた一冊!
PR TIMES
【ライブ配信セミナー】ダイヤモンド半導体の基礎と応用、最新動向 12月13日(金)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES
手業のひととき「蔵元が伝える酒造りの世界と日本酒の美味しい飲み方」を開催
PR TIMES Topics
【ライブ配信セミナー】半導体製造における後工程・実装・設計の基礎 12月12日(木)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES
【イベント事後レポート】NEDO、CEATEC2024にて12プロジェクトを公開!
PR TIMES
戸籍を調べて驚愕! 実際にあった相続トラブル
antenna
【ライブ配信セミナー】大規模AI基盤を支える光電融合技術の基礎と展望 12月16日(月)開催 主催:(株)シーエムシー・リサーチ
PR TIMES
お客さまが扱いやすい製品とは?注目の次世代パワー半導体素材GaNの実用化に向けた挑戦
PR TIMES STORY
【ウカフェ】期間限定のおにぎり&サンドイッチ屋さん
PR TIMES Topics