アジアの化粧品技術研究発表の場であるASCS CONFERENCE 2024(インド・ゴア)にて、アップサイクル発想で誕生した国産サフラン花エキスの研究発表がベストプレゼンテーションアワードを受賞

2024.03.14 16:11
株式会社テクノーブル
利用方法の無かった国産サフラン花をアップサイクルする、エコ発想で誕生した美容成分。様々な肌トラブルの原因となる炎症に対して、その初期段階と長引かせてしまう原因にフォーカスした機能性研究結果を発表。

1961年の創業以来、60年以上に渡って機能性美容成分の研究開発と製造販売を行っている株式会社テクノーブル(本社:大阪市西区北堀江、代表取締役社長:澤木茂豊)は、2024年3月6日から8日にインドのゴアで開催された化粧品の国際学会、ASCS Conference 2024に参加し、肌荒れの主な原因である人の皮膚の炎症メカニズムとその改善策について研究成果を口頭発表しました。この度の研究では、炎症の初期段階に関わる因子HMGB1と、炎症を長引かせる因子ICAM-1に注目。培養細胞を用いた実験より、HMGB1の放出やICAM-1の発現を国産のサフランの花から、アップサイクル発想で開発した機能性美容成分「国産サフラン花エキス(製品名:リサフラン-DC(R))」が抑制できることを見出しました。同研究発表は、大変ありがたいことに本学会におけるベストプレゼンテーションアワードを受賞させて頂きました。私たちは、本研究成果を軸に、肌荒れなどのトラブルを特長的な炎症ケアで抑制するリサフラン-DC(R)のご紹介をさらに強化していくと共に、お肌と炎症に関するさらなる基礎研究とイノベーションの足掛かりとして参ります。


 1961年の創業以来、60年以上に渡って機能性美容成分の研究開発と製造販売を行っている株式会社テクノーブルは、2024年3月6日から8日にインドのゴアで開催された、アジアの化粧品技術者が集う国際的な学術大会、ASCS Conference 2024, ALILA DIWA, GOA(ASCS: Asian Societies of Cosmetic Scientists)に参加し、肌荒れの主な原因である人の皮膚の炎症メカニズムとその改善策についての研究成果を口頭発表致しました。発表内容は今大会のベストプレゼンテーションアワードを受賞させて頂きました。
ASCS Conference 2024は、アジアの化粧品技術者が一堂に会し、最新研究結果を発表・討論する国際的な学術大会です。プレゼンテーションおよびポスター形式での発表があり、弊社は3月6日のプレゼンテーション発表での参加となりました。
ASCS2024 Conference 2024の様子
 肌荒れの直接的な原因としてはニキビ、乾燥肌、かゆみ、赤みなど様々にあります。その根本にある炎症メカニズムのうち、HMGB1とICAM-1の役割、および国産サフラン花エキス(製品名:リサフラン-DC(R))による炎症改善効果を発表しました。リサフラン-DC(R)は弊社のサスティナビリティ開発の取り組みの1つで、未利用資源をアップサイクルして開発する美容成分ブランドRe: Derma & Earthから誕生した製品です。スパイスとして利用されるめしべ部分を収穫した後に未利用資源として残る美しいサフランの花を美容成分へとアップサイクルしています。
未利用資源 国産サフランの花
 HMGB1は紫外線などによりダメージを受けた表皮角化細胞や線維芽細胞などから放出され、HMGB1を受容した細胞はお肌の毛細血管を拡張し、免疫細胞を呼び寄せる役目を持つサイトカインやケモカインを作り出します。お肌の炎症メカニズムのうえではHMGB1を抑制することは炎症の初期段階で重要なポイントとなります。
一方、炎症時にICAM-1は血管内皮細胞の表面に発現する糖タンパク質であり、好中球をはじめとした免疫細胞と相互作用し、血管外へ誘導する役目を持っています。誘導された免疫細胞はお肌における炎症反応を長引かせてしまいます。HMGB1は炎症の初期に働き、ICAM-1は炎症を長引かせるという特徴があります。
培養細胞を用いた実験より、HMGB1の放出やICAM-1の発現をサフラン花エキス(製品名:リサフラン-DC(R))が抑制できることを見出しました。
国産サフラン花エキス リサフラン-DC(R) のHMGB1の合成抑制効果
国産サフラン花エキス リサフラン-DC(R) のICAM-1の合成抑制効果
HMGB1とICAM-1による炎症発生メカニズムとリサフラン-DC(R)の作用ポイント
 炎症メカニズムは非常に複雑で、化粧品業界でも様々な抑制アプローチが試みられていますが、弊社ではより効率的で、効果が得られやすいと考えられる炎症の「始まり」と「長引き」に今回注目し、研究発表を行いました。大変ありがたいことに、同発表は今大会のベストプレゼンテーションアワードを受賞させて頂きました。
 テクノーブルでは、今回の受賞経験も軸にしながら、炎症がもたらす肌トラブルを解決するサスティナブルな国産サフラン花エキス、リサフラン-DC(R)のご紹介をさらに強化して参ります。また、弊社ライフサイエンス総合研究所でも複雑な炎症メカニズムの基礎研究と、化粧品美容成分への応用研究にさらに努めて、イノベーションの高い製品開発へと結び付けて参りたいと考えております。


国産サフラン花エキス リサフラン-DC(R)の詳細はこちら
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お問い合わせ
株式会社テクノーブル
大阪市西区北堀江1-6-8 テクノーブル四ツ橋ビル9F
Tel. 06-6538-2595(代表)Email: info@technoble.co.jp
Website:

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