OHラジカルの発生量が従来比150倍！パナソニックがカビ抑制時間を短縮した新型ナノイーX発生デバイスを開発

@DIME
2026.10.01 23:00
パナソニックは2026年9月28日、新しいナノイーX発生デバイス「ナノイーX（72兆）」を発表した。これは除菌・脱臭成分であるOHラジカル量を、「ナノイー」の4800億個/秒に対して150倍（※1）となる72兆個/秒まで高めるとともに、カビ抑制成分量（※2）を増加。その結果、これまで最大のOHラジカル量であった「ナノイーX（48兆）」と比較して、カビ抑制時間を2分の1（※3）に短縮したという。

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